徐申學調控整個仙女山控股下屬的半導體裝置，材料研發體系，甚至動用自己的人脈關係，影響力以及其他資源，進而加速了DUV浸潤式光刻機的大規模量產。

這讓海灣科技的HDUV-400型光刻機的量產速度出現了提升。

“今年，我們將會確保為國內各晶片廠商提供至少五十臺HDUV-400光刻機量產型，用於各廠商的晶片生產，同時將會再生產至少五臺HDUV-500型光刻機的試產型號，用於智雲微電子，中芯兩家廠商的的測試，研發工作！”

“為了確保能夠做到這一點，我們還將會進一步加大人員的招聘，培養力度！”

海灣科技的CEO王道林，為徐申學如此描繪今年光刻機領域裡的生產以及研發情況。

“目前我們已經初步解決了500型光刻機的套刻精度問題，在子系統的測試中已經能夠做到穩定三點五奈米的精度，可以支援十四奈米工藝的量產。”

“接下來我們將會試製一臺樣機進行整機測試，並在第三季度開始交付首臺測試樣機給智雲微電子方面！”

“而更進一步的光刻機研發中，我們正在搞套刻精度兩點五奈米，用以未來支援七奈米工藝的600型號，目前雖然還遇到了一些技術難題，不過我們正在加大力度進行轉向的技術攻關，我們爭取在未來的兩年裡解決這個技術難題。”

“只要解決這個兩點五奈米的套刻的技術難題，那麼我們的光刻機就能夠進行高效的，高良率四重曝光，而高良率四重曝光技術則是可以用於等效七奈米工藝的大規模量產！”

“儘管我們和ASML還存在一定的技術差距，但是這種技術差距並不是不可跨越的，畢竟我們已經解決了最難的鏡片以及光源部分，還解決了雙工作臺問題，如今我們只需要穩紮穩打，持續的進行技術最佳化，逐步提升，就能夠把這個套刻精度逐步提升起來！”

徐申學道：“如此看來，我們的DUV浸潤式光刻機應該是穩了，未來七奈米工藝也問題不大了。”

“那麼七奈米工藝以下呢？我們正在搞的600型光刻機能否進一步突破極限，做到等效五奈米的晶片？”

王道林此時道：“七奈米工藝問題不大，而五奈米工藝的話雖然理論上可以透過多重曝光，比如八重曝光，使用現有DUV浸潤式光刻機的134奈米波長的光源，也能用來製造等效5奈米工藝的晶片。”

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