在當前這個階段，對成品率產生主要影響的因素，是基片材料本身的品質等級，以及晶片所設定的尺寸規格引數。

根據趙衛國的初步測算，利用這臺光刻機來生產一微米規格的晶片，其成品率大概會處於百分之九十五至百分之九十八的區間範圍之內。

可要是換成生產365奈米規格的晶片，那麼最終的成品率則大機率會落在百分之八十五至百分之九十之間。

而這樣的成品率數值，在當代晶片製造行業領域中已經算得上是相當高的水平了，

即便是那些用於商業化生產所使用的光刻機，也很難達到如此出色的成品率標準。

不過，成品率的具體實際數值，仍然需要依靠實際生產產出的結果來進行驗證，只有透過上千個基片實際製造出的晶片數量，才能準確地反映出真實的成品率情況。

接下來，整個研發團隊的核心工作任務，就是繼續在這片區域生產製造出更多的光刻機裝置，同時完成更多晶片掩膜的製作工作。

有了這一次成功製造光刻機的實踐經驗之後，對於團隊的成員們來說，已經不再需要趙衛國親自留在現場進行坐鎮指揮和技術指導工作了。

而且在後續的生產製造過程中，整體的工作進度也將會變得更加順暢和高效。

對於目前所有已完成全部製造流程的各類裝置，軋鋼廠管理方早已提前規劃並準備好一座完全封閉的專屬生產車間。

待所有研發製造完畢的光刻機以及與之配套的各類相關裝置全部除錯妥當、達到可投入使用的狀態後，

都會被統一轉運至這座專門用於晶片生產的秘密車間，以支撐後續大規模晶片量產工作的順利開展。

當這些裝置的轉運交接工作全部圓滿完成之後，參與此次研發專案的團隊大部分成員，將會整理好個人物品啟程離開軋鋼廠。

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