【所有鏡片加工完畢，表面粗糙度：0.05皮米。曲面輪廓誤差：低於0.01皮米。】

看到這個資料，就算是心如止水的陳啟明，也不禁深吸一口氣。0.01皮米！這是什麼概念？相當於在整個太平洋海面上，最高的浪花和最低的波谷之間，高度差不超過一根頭髮絲的百萬分之一！

這已經不是工業，而是神蹟！

接下來是第三步，也是決定EUV光刻機成敗的關鍵——多層膜（ltilayer）的鍍制。

由於沒有任何材料能有效折射13.5奈米波長的EUV光，所以EUV光刻機必須使用反射鏡。為了最大限度地反射EUV光，鏡片表面必須鍍上四十到五十層“鉬（）”和“矽（Si）”交替組成的薄膜，每一層的厚度都必須精確控制在幾奈米。

在前世，這是全球僅有少數幾家公司掌握的核心機密，其反射率的理論極限被公認為70%。

陳啟明將八塊完美無瑕的鏡片送入“原子層沉積（ALD）”裝置中。但他並沒有直接開始鍍膜。

“在/Si多層膜之間，插入厚度為0.1奈米的‘釕-石英’複合介面層，以消除介面應力，提升反射率。”

這又是他基於更高維知識進行的魔改！外界科學家還在為如何減少薄膜之間的應力而苦惱時，他已經找到了完美的解決方案。

隨著裝置執行，不同元素的原子蒸汽被交替注入真空腔體，一層又一層地“刷”在鏡片表面。

當鍍膜完成，系統給出了最終的檢測報告。

【反射率：71.8%。】

超越理論極限！

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