臨近年尾，孫健有許多大事要處理，不會為終審法院的判決而長吁短嘆，昨天接到魏建國的電話，8英寸晶圓和500n程工藝光刻機在bsec研製成功！

雖然在10月底就接到好訊息，研發工程已經到了尾聲，但真正接到確鑿的訊息，孫健還是很高興的，當天就乘飛機來到京城，向全體研發人員表示祝賀，當場宣佈公司拿出300萬元，按照貢獻大小，獎勵全體研發人員。

從6英寸晶圓、800n程工藝光刻機到8英寸晶圓、500n程工藝光刻機是一道大坎，bsec投資了8億元，耗費了18個月！

一旦跨過，bse、180n程工藝光刻機就相對容易一些。

因為鄧國輝院士領導的光刻機光源研究所經過三年多的努力，7月14日，研製成功全球第一臺浸沒式193n刻機試驗機，波長達到134n突破了193n長極限的世界性難題，因所用的光學系統是委託carlzeissag生產的，沒有完全自主的智慧財產權，秘而不宣，等bsec光刻機光學研究所研製的光學系統達到要求後，再申請公司發明專利。

從193n式光刻機到193n沒式光刻機，突破了193n長極限的世界性難題，是一種劃時代的光刻技術。

前世90年代末，隨著摩爾定律的繼續演進，光刻機制程工藝從130n入90n晶圓尺寸也從8英寸升級到12英寸，但大家都沒想到，半導體產業在193n長上卡了將近20年！

大家發現，乾式193n刻機的極限製程工藝是65n再往下就很難實現了，如何突破65n跨入40n程工藝，成為阻擋在所有半導體廠商面前的攔路虎。

g兩大光刻機巨頭如今正在研製130n程工藝的光刻機，上面還有90n65n程工藝的光刻機，還沒有碰到65n程工藝的極限！

bsec所採用的光刻機光源是grf準分子雷射器，為了掌握其核心技術，鄧國輝和錢富強率領光刻機光源研究技術人員丟掉對方的圖紙，重新研製了一遍，bsec光刻機公司如今能生產滿足1u程工藝、800n程工藝和500n程工藝的193nrf準分子雷射器，按照雙方當初簽訂的公司發明專利轉讓協定，這些準分子雷射器只能在bsec光刻機上使用。

1995年7月，錢富強晉升研究員，擔任光刻機光源研究所所長。

鄧國輝院長主持bsec光刻機研究院的全盤工作。

bsec能生產8英寸晶圓、500n程工藝的光刻機，雖然離g製程工藝的光刻機，還差350n250n180n道關口，但這一步跨出去是多麼的不易？

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